光学材料

介绍。光学现象的分类；复折射率和介电常数。固态材料的特殊性质。 光学材料。 洛伦兹和德鲁德模型。晶体电介质和半导体：氧化物、卤化物和卤化物。金属。金属颜色。光学玻璃。混合玻璃和电介质（金属和半导体纳米粒子）。用稀有金属离子掺杂透明固体。塑料光学和分子材料。 光学材料的合成、成型和抛光。 玻璃制造技术。光学晶体的生长（Verneuil, Czochralski, Bridgeman, Stepanov, Float zone 方法，从水基盐溶液中生长）； 光学晶体和玻璃的机械加工：使用自由磨料和固定磨料进行切割、研磨和抛光。设备：磨料及相关材料。金刚石车削方法。比尔比层、表面下损伤和粗糙度。连接光学零件的方法。生产非球面和自由形态。体布拉格光栅。介绍使用实验设计优化生产过程：变量类型、响应函数模型、全因子和部分因子设计、筛选和优化策略、阻塞。 控制光学表面形状和粗糙度的方法。受控参数。控制球面和平面光学表面形状和粗糙度的方法。焦距测量方法。角向尺寸的控制。 光学材料表征方法。光声吸收光谱、折射仪和椭偏仪的折射率测量、红外吸收和拉曼散射测量、均匀性测量。 光学涂层。 形成光学层的经典沉积技术。物理气相沉积 (PVD) 方法（热阻蒸发；电子束蒸发；掠角沉积 (GLAD)：各向异性和多孔涂层；离子辅助蒸发）、溅射方法（磁控溅射 (DC, RF)；离子束溅射 (IBS)）、化学气相沉积 (CVD)、原子层涂层 (ALD)、从液体和溶胶凝胶涂层中沉积。 最受欢迎的涂层设计及其光谱响应。所需光谱特性的规范、光学涂层设计优化方法。光学厚度单位和经典的光学涂层结构。减反射 AR 涂层 (1V, 2V)；滤光片：宽带、“截止”、窄带；高反射镜（金属、电介质）；分束器：用于强度、光谱分隔器（二色滤光片）、偏振器；色散涂层（芯片镜）；雕塑涂层的类型和特性。 光学涂层的特殊主题。洁净室环境；在沉积过程中控制生长层厚度的方法；真空泵（类型：优点和缺点）；光学基板的清洁和运输；蒸发过程中混合材料的方法（混合物的光学性质和模型）；超大光学元件的沉积：行星圆顶、遮蔽方法；最受欢迎的涂层材料和工作气体。 主动控制的光学元件。电光调制器和开关。伽凡尼扫描仪。液晶电光元件。微机械空间和时间光调制器 (MOEMS)。声光调制器和扫描仪。自适应光学元件。 光学元件的标准化表征方法。吸收、散射和反射的损耗、透射；表面形状偏差的估计：波纹度和粗糙度；用于外观表面质量评估的划痕和挖掘方法；光学电阻和损伤阈值的表征； 光纤光学元件。用于制造光纤和光纤制造方法的材料。光子晶体光纤。光纤电缆和束。光纤参数的表征。

维尔纽斯大学作为全球高等教育的标杆性机构，其光学材料项目依托学校在领域的深厚学术传统与实践经验，致力于培养学生的系统性分析能力。